MOLYBDÄN-SPUTTERTARGETS FÜR FLACHBILDSCHIRMANWENDUNGEN

H.C. Starck bietet ein breit gefächertes Sortiment an hochleistungsfähigen Refraktärmetalllösungen für Dünnschicht-Sputteranwendungen. Für die Produktion von Dünnfilmtransistor- (TFT-) Anwendungen produziert H.C. Starck sowohl planare Sputtertargets als auch spezielle Rohrtargets aus Molybdän (Mo). Dünnschichten aus Molybdän dienen als Sperrschichten, Elektroden und Leiterbahnen in Flat-Panel-Displays (FPD) für HDTV, Computer, Monitore und Mobilgeräte, einschließlich Smartphones, PCs, Digitalrecorder und GPS-Empfänger, und finden auch Einsatz in anderen Displaysystemen.

Neuestes Mitglied im Sortiment der planaren Sputtertargets von H.C. Starck ist die extrabreite Gen-5.5-Molybdänplatte mit den Maßen 1.580 × 1.950 mm. H.C. Starck hat bereits Molybdän-Sputtertargets und maschinell bearbeitete Targets für Sputteranlagen der Generationen 1 bis 8 produziert.

Für seine Forschung und Entwicklung im Bereich der Dünnschichttechnologie hat H.C. Starck in hochmoderne Labors für Werkstoffverarbeitung und Dünnschichtanalyse investiert. Zu unseren Einrichtungen gehört ein Dünnschicht-Werkstofflabor, das neben der Prozesstechnik für das Sputtern mit planaren und Rohrtargets auch über die entsprechenden Messgeräte zur Schichtcharakterisierung verfügt. Kunden profitieren von unseren hausinternen Kapazitäten für Prototyping, Modellierung und Analyse.

Die Qualität der Sputtertargets stellen wir durch eine Elektronen-Rückstreudiffraktionsanalyse sicher (Electron Back Scatter Diffraction, EBSD).

Sputtertarget-Materialien in höchster Qualität

H.C. Starck ist einer der weltgrößten Hersteller von Molybdän, Wolfram, Tantal und Niob sowie Erzeugnissen aus diesen Metallen. Wir verfügen über eine robuste, vertikal integrierte Lieferkette für Dünnschicht-Sputtertargets. Unsere Fertigungseinrichtungen produzieren ein breites Sortiment von Sputtertarget-Materialien in allen Konfigurationen.

  • Sputtertarget-Materialien in höchster Qualität
    • Hohe Reinheit, niedriger Gehalt an Fe, Ni und Cr
    • Volle Dichte
    • Chemische und metallurgische Einheitlichkeit
  • Planare Sputtertargets
    • Hohe Reinheit
    • Präzise Maße und enge Toleranzen
  • Rohrtargets
    • Konfigurationen mit extrudierten, monolithischen drehbaren Targets
      • Höchste Pulverdichten und -depositionsraten
      • Höhere Lebensdauer der Targets und bessere Materialausnutzung
    • Einheitliche Hülsen für gebondete drehbare Targets
    • Integrierte Fertigung „unter einem Dach“

Innovative Forschung und Entwicklung

Das aktive Engagement von H.C. Starck in der Forschung und Entwicklung für Dünnschichtprodukte stützt sich auf ein Team hoch qualifizierter Wissenschaftler, die ihren ganzen Ehrgeiz daransetzen, die Metalltechnologie für Sputtertargets aus Refraktärmetallen voranzubringen. Zum Nutzen unserer Kunden investieren wir kontinuierlich in Betrieb und Aufrüstung unserer fortschrittlichen Fertigungs- und Analyseeinrichtungen. Im Dünnschicht-Werkstofflabor von H.C. Starck untersuchen wir planare Sputtertargets und Rohrtargets mit einem kompletten Instrumentarium für die Dünnschichtcharakterisierung, einschließlich optischen und Elektronenmikroskopen. In unserem Verarbeitungstechnikum produzieren wir Mustertargets mit Unterstützung eines vollwertigen chemischen Analyselabors. Fortschrittliche Einrichtungen für Materialmodellierung und Simulation tragen dazu bei, die Entwicklung neuer Produkte und Prozesse bei H.C. Starck zu beschleunigen.

  • Umfassend ausgestattetes Labor für Dünnschichtanwendungen
    • Beschichtungskammern für planare und drehbare Targets
      • Tests des spezifischen elektrischen Schichtwiderstands
      • Adhäsionstests
      • (Möglichkeit zum Co-Sputtern für die schnelle Optimierung der Zusammensetzung)
    • Metallurgisches Labor
      • Optische Mikroskopie
      • SEM mit EDX und EBSD
      • Mechanische Prüfungen/Härtegrad
    • Umfassende Analysemöglichkeiten
      • IGA-Gasanalyse
      • ICP
      • GDMS
  • Breit aufgestelltes Team für Engineering und F&E
    • Anerkannter Branchenführer in Refraktärmetalltechnologie
    • Neuartige Mikrostrukturkontrolle zur Verbesserung von Schichtuniformität und Performancekonsistenz
    • Hunderte von Patenten und technischen Publikationen
  •  Labor für Werkstoffverarbeitung
    • HIP
    • Walzen (Verformen)
    • Isostatische Heißpresse
    • Wärmebehandlungen

Vertikal integrierte Lieferkette

H.C. Starck ist vertikal integriert und verfügt über Fachkompetenz im Reduzieren, Pressen und Sintern von Hochleistungswerkstoffen sowie in deren Endbehandlung für den Markt. Ausgehend von seinen Kernkompetenzen Molybdän, Wolfram, Tantal und Niob bietet H.C. Starck hochwertige Werkstoffe für planare Sputtertargets und Rohrtargets zur Großflächenbeschichtung.

Die bedeutenden Hersteller von Flachbildschirmen wissen die hohe Reinheit, Dichte, einheitliche Mikrostruktur und Konsistenz der Materialien von H.C. Starck ebenso zu schätzen wie ihren niedrigen spezifischen elektrischen Widerstand, die hohe Leistungsdichte und die überlegene Sputterperformance.

H.C. Starck bietet einen kompetenten Service und hervorragendes Fachwissen, um seine Kunden bei der Wahl der besten Lösung für alle Refraktärmetallanwendungen zu unterstützen und zu beraten. Den lokalen Support sichern mehr als 30 Standorte auf der ganzen Welt. Wenden Sie sich für weitere Informationen bitte an unsere Anwendungsspezialisten.

  • Sputtertargets für TFT-FPD-Anwendungen
  • Planare Sputtertargets und Rohrtargets
  •  Mikrostruktur
  • EBSD

Siehe Molybdän-Produktdatenblätter:

PD-7040 Reines Molybdän-Target aus Pulvermetallurgie ST-100-1

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Produktbroschüren

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  • High Performance Solutions in Thin Film Materials
    高機能ソリューション 薄膜材料
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Produktdatenblatt

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  • Pure Molybdenum Powder Metallurgy Target ST-100-1
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